Очищающая пенка для умывания проблемной кожи с AHA и BHA кислотами Nextbeau Wish Planner AHA/BHA Foam Cleanser 100мл

Очищающая пенка для умывания с AHA/BHA кислотами для проблемной кожи эффективно удаляет загрязнения, остатки макияжа и избыток себума с поверхности эпидермиса, оставляя его идеально чистым, свежим, гладким и матовым.

Специальная формула с кислотами и аминокислотами регулирует выработку кожного сала, матирует и сужает поры.

Для комбинированной, жирной, проблемной кожи.

Активные компоненты:

• АНА-кислоты (гликолиевая и молочная) - являются водорастворимыми, великолепно работают на поверхности кожи, способствуют отшелушиванию мертвых клеток, тем самым активизируют процессы обновления, выравнивают текстуру и тон кожи, помогают справиться с различными высыпаниями на лице и различными несовершенствами. Кроме того, AHA кислоты уменьшают первые признаки увядания кожи: повышают ее эластичность, разглаживают мелкие морщинки, возвращают лицу сияние.
• ВНА-кислоты (салициловая) - являются жирорастворимыми, обладают способностью проникать глубоко в поры, растворять сальные пробки, помогают справиться с черными точками. Также салициловая кислота оказывает обеззараживающее и противовоспалительное действие.

Состав: Water, Stearic Acid, Glycerin, Myristic Acid, Lauric Acid, Potassium Hydroxide, Cocamide DEA, Sorbitan Olivate, Cocamidopropyl Betaine, Phenoxyethanol, Chlorphenesin, Fragrance, Sodium Chloride, Disodium EDTA, Salicylic Acid, Butylene Glycol, Lactic Acid, Citric Acid, PCA, Glycolic Acid, Malic Acid, Glycine, Serine, Glutamic Acid, Aspartic Acid, Leucine, Alanine, Lysine, Arginine, Tyrosine, Phenylalanine, Proline, Threonine, Valine, Isoleucine, Histidine, Cysteine, Methionine, Tartaric Acid.

Способ применения: нанести небольшое количество средства на чистую кожу рук. Взбить пену, распределить ее по коже лица, мягко помассировать, затем смыть теплой водой.

Меры предосторожности: избегать попадания в глаза, в случае возникновения раздражения прекратить использование.

Условия хранения: хранить при температуре от 0° С до +25° С без доступа прямых солнечных лучей.